エレクトロニクスにおけるチップとウェハの違い

主な違い:チップは集積回路としても知られています、それは単一のユニットで製造される電子部品のアセンブリですが、ウエハは集積回路が形成されるときに集積回路の形成に使用されるシリコンの薄いスライスを指しますこれらのウェーハに埋め込まれています。

集積回路はチップとして知られており、それは回路、経路、およびトランジスタなどのパッケージである小型の電子装置であり、特定のタスクを実行するためにすべて一緒に働いているか、または一連のタスクであり得る。 このチップは、マイクロプロセッサ、オーディオおよびビデオ機器、自動車など、現代のほとんどの電子機器の基幹となっています。 集積回路はウェハに埋め込まれている。 チップはトランジスタのような電子部品を含みます。 チップは 'マイクロチップ'を指すための短い名前です。 それらは論理回路を提供するために使用されます。

チップは一般にシリコンウェハから作られる。 チップは様々な種類のものであり得る。 CPUチップはマイクロプロセッサとも呼ばれます。 電子部品に基づいて、チップは次のように分類できます。

  • SSI(小規模統合):チップあたり最大100個の電子部品を含む
  • MSI(中規模統合):チップあたり100から3000の電子部品を含む
  • LSI(大規模集積回路):1チップあたり3, 000〜100, 000個の電子部品を含む
  • VLSI(超大規模集積):チップあたり10万から100万の電子部品を含む
  • ULSI(超大規模集積):チップあたり100万個以上の電子部品を含む

エレクトロニクスでは、ウェーハはスライスまたは基板としても知られています。 それはの薄いスライスです

半導体材料およびこのスライスは集積回路の製造に使用される。 それはその上に集積回路を形成することができるベースのように作用する。 これらの薄いスライスは電子製品の心臓部と見なされています。 ウェハ上のマイクロ回路は、さまざまな物質の拡散と堆積によって構成されています。 成長を続けるエレクトロニクス業界では常に、以前のバージョンと比較して、より効率的で経済的なコストの低い、より薄いチップを形成する傾向があります。

生シリコンは様々な工程を経て単結晶基板に変換されます。 シリコンの大部分は、炭素を用いたSiO 2の還元によって製造され、それ故、市販の褐色冶金グレードシリコンが得られる。 それはまたさらに精製する必要があり、したがってMG-SiをHclと反応させてTCSを得る。 この方法は、Fe、AlおよびBのような不純物を除去することができる。そして、結晶成長の過程で、単一の結晶方位を有するサンプルが得られる。 後に単結晶種の助けを借りて、丸い結晶が得られる。 結晶の薄いスライスが得られ、これらのスライスはウェーハとして知られている。 後に成長プロセスが起こり、最後に、形状などのような所望の特性を得るために様々な機械が使用される。ウェハは様々な直径で利用可能である。

ウェハとチップの違いはそれらの関係にあります。 ウェハはチップのベースとして作用するか、またはチップはウェハに埋め込まれる。 それらは一緒になって、エレクトロニクスの世界で広く使われている重要な単位を形成しています。

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